离子注入是将被掺杂的杂质原子或分子进行离子化，经磁场选择和电场加速到一定的能量，形成一定电流密度的离子束流后被直接打进(扫描注入)半导体晶圆内部去。A. 正确B. 错误

本题考查对离子注入工艺基本原理的理解。关键点在于明确离子注入的步骤是否符合实际工艺流程。需注意以下核心概念：

1. 离子化：杂质原子需转化为离子以便加速。
2. 磁场选择：通过质量分析器筛选特定离子，确保纯度。
3. 电场加速：赋予离子动能，控制注入深度。
4. 离子束流注入：加速后的离子聚焦成束流并注入晶圆。

若题目描述完整且步骤正确，则判断为正确。

离子注入是半导体制造中的关键技术，用于精确掺杂。其核心步骤如下：

1. 离子化：将杂质原子或分子转化为带电离子（正离子）。
2. 磁场选择：利用质量分析器（如磁偏转装置）筛选特定质量的离子，排除其他杂质。
3. 电场加速：通过高压电场加速离子至高能，能量决定注入深度。
4. 离子束流注入：加速后的离子聚焦成束流，扫描注入晶圆表面。

题目描述完整覆盖上述关键步骤，且未出现错误表述，因此答案为正确。