二次电子像的衬度和背散射电子像的衬度各有何特点?

步骤 1：二次电子像的衬度特点
二次电子像是由样品表面发射的二次电子形成的图像。二次电子像的衬度主要来源于样品表面的形貌特征，如表面的高低起伏、边缘等。此外，样品的局部电位和磁畴结构（第一类磁衬度）也会影响二次电子像的衬度。二次电子像具有景深大、立体感强、分辨率高的特点，能够清晰地显示样品表面的微小细节。
步骤 2：背散射电子像的衬度特点
背散射电子像是由样品内部散射的电子形成的图像。背散射电子像的衬度主要来源于样品内部的原子序数差异，即不同材料的原子序数不同，散射电子的能力也不同。此外，样品的形貌、局部电位和磁畴结构（第二类磁衬度）也会影响背散射电子像的衬度。背散射电子像具有景深小、立体感不强、分辨率低的特点，但能够清晰地显示样品内部的原子序数差异。