如图2所示,两块无限大的金属薄板,相互平行,单位宽度内通过的电流密度为I_0,则在空间产生的磁场分布中,在AB的左方,B=______ ;在AB之间,B=______;在B的右方,B=______。4-|||-I0 ×x I0-|||-A B-|||-图2

考查要点：本题主要考查安培环路定理在无限大平行载流平板系统中的应用，以及空间不同区域磁场的叠加分析。

解题核心思路：

1. 单块载流平板的磁场分布：无限大平板电流在两侧产生的磁场大小相等、方向相反，大小为$\frac{\mu_0 I_0}{2}$。
2. 两块平行平板的叠加：两块平板电流方向相同，中间区域磁场方向相同叠加，外部区域磁场方向相反抵消。

破题关键点：

• 明确两块平板的电流方向及空间位置关系。
• 分别计算单块平板的磁场，再根据区域位置进行矢量叠加。

单块载流平板的磁场分析

假设单块无限大平板电流沿$x$方向流动，单位宽度（沿$y$方向）电流为$I_0$。根据安培环路定理，取矩形环路积分可得：

• 平板一侧（如$z>0$区域）：$B = \frac{\mu_0 I_0}{2}$（方向垂直向外）。
• 平板另一侧（如$z<0$区域）：$B = -\frac{\mu_0 I_0}{2}$（方向垂直向内）。

两块平行平板的叠加

设两块平板平行放置，电流方向相同：

1. AB左方（左侧平板左侧区域）：

   • 左侧平板产生$B_1 = -\frac{\mu_0 I_0}{2}$。
   • 右侧平板在该区域产生$B_2 = \frac{\mu_0 I_0}{2}$（右侧平板左侧磁场方向与左侧平板相反）。
   • 总磁场：$B = B_1 + B_2 = 0$。

2. AB之间（两平板之间区域）：

   • 两平板均产生$B = \frac{\mu_0 I_0}{2}$（方向相同）。
   • 总磁场：$B = \frac{\mu_0 I_0}{2} + \frac{\mu_0 I_0}{2} = \mu_0 I_0$。

3. B右方（右侧平板右侧区域）：

   • 右侧平板产生$B_1 = -\frac{\mu_0 I_0}{2}$。
   • 左侧平板在该区域产生$B_2 = \frac{\mu_0 I_0}{2}$（左侧平板右侧磁场方向与右侧平板相反）。
   • 总磁场：$B = B_1 + B_2 = 0$。