1.[单选题]EUV光刻机以波长为13.5纳米的（ ）作为光源的光刻技术。A. 极蓝光B. 极红光C. 极紫外光D. 极红外光

EUV光刻机使用极紫外光（Extreme Ultraviolet）作为光源，其波长为13.5纳米。这种光刻技术能够实现更精细的电路图案制作，是当前半导体制造技术中的重要组成部分。