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化工
题目

一、填空1气体吸收计算中,表示设备(填料)效能高低的一个量是________,而表示传质任务难易程度的一个量是________。2在传质理论中有代表性的三个模型分别为________、________、________3如果板式塔设计不合理或操作不当,可能产生________、________及等不正常现象,使塔无法工作。4在吸收塔某处,气相主体浓度y=0.025,液相主体浓度x=0.01,气相传质分系数ky=2kmol/m2•h,气相传质总Ky=1.5kmol/m2•h,则该处气液界面上气相浓度yi应为0.01。平衡关系y=0.5x。5逆流操作的吸收塔,当吸收因素A<1且填料为无穷高时,气液两相将在________达到平衡。6单向扩散中飘流因子________。漂流因数可表示为P,它反映________7在填料塔中用清水吸收混合气中HCl,当水量减少时气相总传质单元数NOg_增加_。8一般来说,两组份的等分子反相扩散体现在________单元操作中,而A组份通过B组份的单相扩散体现在________操作中。9板式塔的类型有________、________、________(说出三种);板式塔从总 体上看汽液两相呈________接触,在板上汽液两相呈________接触。10分子扩散中菲克定律的表达式为JaDABdCA,气相中的分子扩dz散系数D随温度升高而增大(增大、减小),随压力增加而 减小(增大、减小)。12易溶气体溶液上方的分压,难溶气体溶液上方的分压大,只要组份在气相中的分压________液相中该组分的平衡分压,吸收就会继续进行。13压力________________温度________________将有利于解吸的进行;吸收因素A=________________当A>1时,对逆流操作的吸收塔,若填料层为无穷高时,气液两相 将在塔________达到平衡。14某低浓度气体吸收过程, 已知相平衡常数m=1,气膜和液膜体积吸收系数 分别为kya=2x10-4kmol/m3.s, kxa=0.4 kmol/m3.s,则该吸收过程及气膜阻力占总 阻力的百分数分别为________________:该气体为________溶气体。

一、填空

1气体吸收计算中,表示设备(填料)效能高低的一个量是________,

而表示传质任务难易程度的一个量是________。

2在传质理论中有代表性的三个模型分别为________、________、

________

3如果板式塔设计不合理或操作不当,可能产生________、________

及等不正常现象,使塔无法工作。

4在吸收塔某处,气相主体浓度y=0.025,液相主体浓度x=0.01,气相传质分系

数ky=2kmol/m2•h,气相传质总Ky=1.5kmol/m2•h,则该处气液界面上气相浓度yi应为0.01。平衡关系y=0.5x。

5逆流操作的吸收塔,当吸收因素A<1且填料为无穷高时,气液两相将在________

达到平衡。

6单向扩散中飘流因子________。漂流因数可表示为P,它反映________

7在填料塔中用清水吸收混合气中HCl,当水量减少时气相总传质单元数NOg_增加_。

8一般来说,两组份的等分子反相扩散体现在________单元操作中,而A组份通

过B组份的单相扩散体现在________操作中。

9板式塔的类型有________、________、________(说出三种);板式塔从总 体上看汽液两相呈________接触,在板上汽液两相呈________接触。

10分子扩散中菲克定律的表达式为JaDABdCA,气相中的分子扩

dz

散系数D随温度升高而增大(增大、减小),随压力增加而 减小(增大、

减小)。

12易溶气体溶液上方的分压,难溶气体溶液上方的分压

大,只要组份在气相中的分压________液相中该组分的平衡分

压,吸收就会继续进行。

13压力________________温度________________将有利于解吸的进行;吸收因素A=________________当A>1时,对逆流操作的吸收塔,若填料层为无穷高时,气液两相 将在塔________达到平衡。

14某低浓度气体吸收过程, 已知相平衡常数m=1,气膜和液膜体积吸收系数 分别为kya=2x10-4kmol/m3.s, kxa=0.4 kmol/m3.s,则该吸收过程及气膜阻力占总 阻力的百分数分别为________________:该气体为________溶气体。

题目解答

答案

传质单元高度 传质单元数 双膜理论 溶质渗透理论 表面更新理论。 严重漏液 严重泡沫夹带 塔低 A>1 由于总体流动使传质速率比单纯分子扩散增加的比率。 精流 吸收 泡罩塔 浮阀塔 筛板塔 逆流 错流 大于 减小 , 升高 , L/mV , 顶 气膜控制,约 100% 易

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