电离辐射造成的细胞内遗传物质损伤,常表现为A. 染色体和DNA分子多核苷酸链的断裂重排B. 碱基脱氨基C. 核苷酸烷基化D. 形成胸腺嘧啶二聚体(TT)

步骤 1：电离辐射对细胞内遗传物质的影响
电离辐射能够产生高能粒子，这些粒子能够直接或间接地与细胞内的DNA相互作用，导致DNA分子的损伤。这种损伤可以是单链或双链断裂，也可以是碱基的化学修饰，从而影响DNA的结构和功能。

步骤 2：分析选项
A. 染色体和DNA分子多核苷酸链的断裂重排：电离辐射能够导致DNA链的断裂，进而引起染色体的断裂和重排，这是电离辐射造成遗传物质损伤的主要方式之一。
B. 碱基脱氨基：虽然碱基脱氨基是DNA损伤的一种形式，但不是电离辐射的主要作用方式。
C. 核苷酸烷基化：核苷酸烷基化是化学物质导致DNA损伤的一种方式，不是电离辐射的主要作用方式。
D. 形成胸腺嘧啶二聚体(TT)：胸腺嘧啶二聚体的形成主要是由紫外线照射引起的，不是电离辐射的主要作用方式。

步骤 3：选择正确答案
根据以上分析，电离辐射造成的细胞内遗传物质损伤，常表现为染色体和DNA分子多核苷酸链的断裂重排。