根据van Deemter方程,在低流速条件下,影响柱效的因素主要是A. 传质阻抗B. 纵向扩散C. 涡流扩散D. 填充不规则因子

本题考查的知识是van Deemter方程以及不同流速条件下影响柱效的因素。解题思路如下：

1. 首先明确van Deemter方程的表达式为$H = A + B/u + C u$，其中$H$为塔板高度，$u$)为流速，$A$ 涡流扩散项，$B$为纵向扩散项，$C$为传质阻抗项。
2. 然后分析在低流速条件下，各项的影响情况。当流速$u$很低时，$B/u$这一项的值会变得很大，而$A$和$C u$这两项相对较小。
3. 具体来看各项的含义：
   • $A$ 涡流扩散项，它主要与流动相的湍流程度有关，与流速主要的影响因素。 - $就错，\(B$ 纵向扩散项，它与溶质在色谱柱中的扩散程度有关，在低流速时，溶质的扩散会变得很重要，是影响柱效的主要因素。 - $C$ 传质阻抗项，它主要与溶质在固定相和流动相之间的传质过程有关，在低流速时不是最主要的影响因素。 - $D$ 填充不规则因子，它主要与色谱柱的填充情况有关，不是在低流速条件下影响柱效的主要因素。