离子注入与扩散工艺相比，具有很好的均匀性，注入杂质纯度比较高，并且杂质浓度更容易控制。A. 正确B. 错误

离子注入是一种将离子以高能量注入半导体材料中的工艺，与扩散工艺相比，离子注入具有更好的均匀性，因为离子注入是通过控制离子束的能量和剂量来实现的，这使得杂质的分布更加均匀。此外，离子注入使用的杂质纯度较高，杂质浓度也更容易控制，因为可以通过调节离子束的强度和注入时间来精确控制杂质的浓度。