题目
以下微纳制造技术中,属于“自上而下”方法典型代表的是()A. 化学气相沉积B. 原子层沉积C. 自组装技术D. 光刻技术
以下微纳制造技术中,属于“自上而下”方法典型代表的是()
A. 化学气相沉积
B. 原子层沉积
C. 自组装技术
D. 光刻技术
题目解答
答案
D. 光刻技术
解析
微纳制造技术中的“自上而下”方法指的是从宏观尺度的材料开始,通过一系列加工步骤,逐步减小材料的尺寸,最终达到纳米尺度的制造方法。光刻技术是典型的“自上而下”方法,它通过光刻胶和光刻掩模版,将设计好的图案转移到基底上,然后通过蚀刻等步骤,将图案转化为实际的结构。而化学气相沉积、原子层沉积和自组装技术则属于“自下而上”的方法,它们是从原子或分子尺度开始,通过化学反应或物理过程,逐步构建出宏观尺度的结构。