常用的物理镀膜处理方法（）。A. 偏振镀膜法B. 真空蒸发沉积法C. 离子镀法D. 磁控阴极溅射法E. 阴极溅射法

物理镀膜处理方法是指在不涉及化学反应的情况下，将材料沉积到基底表面的技术。这些方法通常包括真空蒸发沉积法、离子镀法、磁控阴极溅射法和阴极溅射法。这些方法都利用了物理过程，如蒸发、溅射或离子束，来将材料沉积到基底上，形成薄膜。偏振镀膜法不是物理镀膜处理方法，因为它涉及特定的光学性质，而不是物理沉积过程。