离子溅射沉积是用离子同时轰击靶材和工件表面,以增强膜材与工件基材之间的结合力。A. 正确B. 错误

本题考查离子溅射沉积的原理相关知识。解题思路是明确离子溅射沉积的正确过程，然后与题目所描述的内容进行对比判断。
离子溅射沉积是利用高能离子束轰击靶材，使靶材原子被溅射出来并沉积到工件表面，从而形成薄膜。在这个过程中，主要是离子轰击靶材，而不是同时轰击靶材和工件表面。所以题目中“用离子同时轰击靶材和工件表面”的描述是错误的。