S1-|||-M-|||-S21在双缝干涉实验中，屏幕E上的P点处是明条纹。若将缝S2盖住，并在S1、S2连线的垂直平分面处放一高折射率介质反射面M，如图所示，则此时（　　）A. P点处仍为明条纹B. P点处为暗条纹C. 不能确定P点处是明条纹还是暗条纹D. 无干涉条纹

本题考查双缝干涉实验的原理及光的反射引起的相位差。关键点在于：

1. 单缝情况下无法形成干涉，但引入反射面后，反射光可能形成等效的“双缝”。
2. 高折射率介质反射时会产生π的相位差，需结合光程差分析总相位差。
3. 原明条纹点P的光程差为波长整数倍，反射后总相位差变为π，导致干涉暗纹。

反射光的等效路径

• 封闭S₂后，S₁的光直接到达P点（路径S₁P）。
• 反射面M将S₁的光反射后，形成等效路径S₁M'P（M'为S₁关于M的对称点）。

光程差分析

1. 原双缝干涉条件：S₁P与S₂P的光程差为$\Delta = m\lambda$（明纹）。
2. 反射光的等效路径：S₁M'P的光程与原S₂P的光程相等，即$\Delta' = \Delta = m\lambda$。
3. 相位差：
   • 直达光（S₁P）无额外相位差。
   • 反射光（S₁M'P）因高折射率反射产生$\pi$相位差。
   • 总相位差为$\Delta \phi = \frac{2\pi}{\lambda} \cdot m\lambda + \pi = 2m\pi + \pi = \pi$。

干涉结果

总相位差$\pi$对应干涉相消，故P点变为暗条纹。