常见的液态源扩散中用到的磷源有:A. POCl3B. 焦磷酸铝C. 偏磷酸硅D. PH3

本题考查半导体工艺中液态源扩散的常用磷源。关键点在于理解液态源扩散对材料的要求：液态、易挥发、高温下能分解释放磷原子。需结合各选项的物理状态及化学性质进行判断。

选项分析

A. POCl3

• 物理状态：常温下为液态，易于存储和使用。
• 化学性质：挥发性适中，高温下易分解为PO和Cl，释放磷原子，是常用的液态磷源。

B. 焦磷酸铝

• 物理状态：通常为固体，不易直接用作液态源。

C. 偏磷酸硅

• 物理状态：可能为固态或高熔点物质，挥发性不足。

D. PH3

• 物理状态：常温下为气体，属于气态源扩散材料，与题干“液态源”不符。

结论：POCl3（选项A）符合液态源扩散的要求。