常见的液态源扩散中用到的磷源有:A. POCl3B. 焦磷酸铝C. 偏磷酸硅D. PH3

在半导体制造过程中，磷源用于掺杂硅片，以形成N型半导体。液态源扩散是一种常用的掺杂方法，其中磷源以液态形式被引入到硅片中。POCl3（三氯氧磷）是一种常用的液态磷源，因为它在高温下可以分解成磷和氯，从而实现磷的掺杂。其他选项如焦磷酸铝、偏磷酸硅和PH3（磷化氢）虽然也可以作为磷源，但它们通常不是以液态形式用于扩散过程。