题目

物理气相沉积[1]PVD的工艺方法有()A. 真空蒸镀[2]B. 溅射镀膜C. 化学气相沉积[3]D. 热喷涂E. 离子注入

物理气相沉积[1]PVD的工艺方法有()

A. 真空蒸镀[2]

B. 溅射镀膜

C. 化学气相沉积[3]

D. 热喷涂

E. 离子注入

题目解答

答案

AB
A. 真空蒸镀[2]
B. 溅射镀膜