题目非晶硅薄膜的CVD方法中最常用的气体为硅烷或乙硅烷,制备过程中,掺入适量磷烷可得到p型掺杂材料,掺入适量的乙硼烷或三甲基硼烷等则可获得n型掺杂材料A. 正确B. 错误非晶硅薄膜的CVD方法中最常用的气体为硅烷或乙硅烷,制备过程中,掺入适量磷烷可得到p型掺杂材料,掺入适量的乙硼烷或三甲基硼烷等则可获得n型掺杂材料A. 正确B. 错误题目解答答案B. 错误