在半导体生产中(SiO)_2膜作为杂质选择性扩散的掩蔽膜适用于任何杂质。A. 对B. 错

本题考查半导体生产中$\text{SiO}_2$膜作为杂质选择性扩散掩蔽膜的适用范围相关知识。解题思路是明确$\text{SiO}_2$膜在半导体生产中作为杂质选择性扩散掩蔽膜的特性，判断其是否适用于任何杂质。

在半导体生产里，$\text{SiO}_2$膜虽然常被用作杂质选择性扩散的掩蔽膜，但它并非适用于所有杂质。因为不同杂质原子在$\text{SiO}_2$膜中的扩散系数不同，对于一些扩散系数较大的杂质，$\text{SiO}_2$膜无法有效阻挡其扩散，也就不能起到良好的掩蔽作用。所以“$\text{SiO}_2$膜作为杂质选择性扩散的掩蔽膜适用于任何杂质”这一说法是错误的。