刻蚀均匀性是衡量刻蚀工艺在整个硅片上或整个一批硅片间,或批与批的硅片间刻蚀速率均匀性。A. 正确B. 错误

刻蚀均匀性是指在半导体制造过程中，刻蚀工艺在硅片上或一批硅片间，以及批与批的硅片间，刻蚀速率的一致性。均匀性是衡量刻蚀工艺质量的重要指标，它直接影响到器件的性能和可靠性。如果刻蚀速率不均匀，会导致器件尺寸不一致，从而影响器件的性能和可靠性。