题目

在半导体制作过程中，哪一个步骤是将硅片表面清洗以去除杂质和污染的关键步骤？A. 光刻B. 清洗C. 氧化D. 掺杂

在半导体制作过程中，哪一个步骤是将硅片表面清洗以去除杂质和污染的关键步骤？

A. 光刻

B. 清洗

C. 氧化

D. 掺杂

题目解答

答案

B. 清洗