题目

[判断题] CVD是利用某种物理过程，例如蒸发或者溅射现象实现物质的转移，即原子或分子由源转移到衬底（硅）表面上，并淀积成薄膜。A . 正确B . 错误

[判断题] CVD是利用某种物理过程，例如蒸发或者溅射现象实现物质的转移，即原子或分子由源转移到衬底（硅）表面上，并淀积成薄膜。
A . 正确
B . 错误

题目解答

答案

错误

解析

CVD（化学气相沉积）是一种化学过程，而不是物理过程。它通过化学反应在衬底表面形成薄膜。蒸发和溅射是物理气相沉积（PVD）的实例，而不是CVD。