应用最广泛的一种溅射沉积方法是( )A. 直流溅射B. 射频溅射C. 磁控溅射D. 反应溅射

溅射沉积方法包括直流溅射、射频溅射、磁控溅射、反应溅射、中频溅射与脉冲溅射、偏压溅射、离子束溅射等。其中，磁控溅射技术因其沉积速度较高、工作气体压力较低等独特优越性，成为应用最广泛的一种溅射沉积法。