光刻胶的成分包含:A. 高分子聚合物（树脂）B. 感光剂C. 溶剂D. 添加剂

光刻胶是一种用于微电子制造过程中的关键材料，主要用于光刻工艺中。它由多种成分组成，包括高分子聚合物（树脂）、感光剂、溶剂和添加剂。这些成分共同作用，使光刻胶能够在曝光和显影过程中形成所需的图案，从而在半导体器件制造中实现精细的图形转移。