下列属于物理和化学特性相结合的干法刻蚀技术是A. 溅射刻蚀B. 等离子体刻蚀C. 反应离子刻蚀D. 高密度等离子体刻蚀

本题考查干法刻蚀技术的分类及特点，解题思路是明确各种干法刻蚀技术的原理，判断其是否属于物理和化学特性相结合的技术。

• A选项：溅射刻蚀
  • 溅射刻蚀是利用高能离子轰击靶材，使靶材原子被溅射出来，从而实现对样品的刻蚀。其主要依靠离子的物理轰击作用，没有明显的化学反应参与，所以不属于物理和化学特性相结合的干法刻蚀技术。
• B选项：等离子体刻蚀
  • 等离子体刻蚀是通过等离子体中的活性粒子与样品表面发生化学反应，将样品材料去除。它主要基于化学反应，物理作用相对较弱，并非物理和化学特性相结合的典型技术。
• C选项：反应离子刻蚀
  • 反应离子刻蚀（RIE）是在等离子体刻蚀的基础上发展起来的。在反应离子刻蚀过程中，一方面，等离子体中的活性粒子与样品表面发生化学反应，生成挥发性产物，这体现了化学刻蚀的特性；另一方面，通过施加电场，使离子加速轰击样品表面，产生物理溅射作用，这体现了物理刻蚀的特性。所以反应离子刻蚀是物理和化学特性相结合的干法刻蚀技术。
• D选项：高密度等离子体刻蚀
  • 高密度等离子体刻蚀是为了提高等离子体的密度，增强化学反应速率而发展的技术。它主要侧重于利用高密度等离子体中的化学反应来进行刻蚀，物理作用不是其主要特点，不属于物理和化学特性相结合的典型技术。