题目

在半导体制作过程中，哪一个步骤是将硅片表面清洗以去除杂质和污染的关键步骤？A. 氧化B. 掺杂C. 清洗D. 光刻

在半导体制作过程中，哪一个步骤是将硅片表面清洗以去除杂质和污染的关键步骤？

A. 氧化

B. 掺杂

C. 清洗

D. 光刻

题目解答

答案

C. 清洗