二氧化硅作为选择性扩散掩蔽层的条件有A. 二氧化硅性质比较稳定B. 杂质在二氧化硅中的扩散系数远远小于在硅中的扩散系数C. 杂质扩散在二氧化硅中的扩散很快D. 二氧化硅膜足够厚

二氧化硅作为选择性扩散掩蔽层的条件包括二氧化硅的性质稳定，杂质在二氧化硅中的扩散系数远小于在硅中的扩散系数，以及二氧化硅膜足够厚。杂质在二氧化硅中的扩散很快并不是一个有利条件，因为这会降低掩蔽层的有效性。