在太阳能电池片的制造过程中，下列哪种方法常用于沉积减反射层? A. 溅射法B. 化学气相沉积C. 热氧化D. 电镀

考查要点：本题主要考查太阳能电池制造工艺中减反射层的沉积方法，需结合材料特性与沉积技术的特点进行判断。

解题核心思路：

1. 明确减反射层的材料：常用材料如二氧化硅（SiO₂）、氮化硅（Si₃N₄）。
2. 分析沉积技术特点：
   • 化学气相沉积（CVD）：通过气相反应生成固体薄膜，适合制备氧化物、氮化物薄膜。
   • 溅射法：物理气相沉积，常用于金属或陶瓷，但对非金属氧化物的沉积效率较低。
   • 热氧化：仅能形成特定氧化物（如SiO₂），且厚度控制有限。
   • 电镀：仅适用于金属材料。
3. 匹配材料与技术：减反射层需精确控制薄膜成分和厚度，化学气相沉积更符合工艺需求。

关键步骤分析：

1. 材料特性：减反射层材料（如Si₃N₄、SiO₂）属于非金属化合物，需通过化学反应生成。
2. 技术对比：
   • 化学气相沉积（B）：通过气态前驱体（如硅烷、氨气）在基底表面反应，可精确控制薄膜成分和厚度，广泛用于太阳能电池减反射层。
   • 溅射法（A）：依赖高能粒子轰击靶材，更适合金属或陶瓷材料，但对非金属氧化物的沉积效率低。
   • 热氧化（C）：仅能形成SiO₂，且厚度受限于热力学条件。
   • 电镀（D）：仅适用于金属，无法制备非金属薄膜。
3. 结论：化学气相沉积是唯一能高效制备减反射层的方法。