透射电镜的样品制备技术要求样品要非常薄,那么通常制备好的样品中心的厚度为()A. 5-10 nmB. 100-200 nmC. 100-1000 nmD. 0.5-2 nm

透射电镜（TEM）的样品制备要求样品足够薄以确保电子束能够穿透并形成清晰图像。

• 关键点：电子束穿透能力有限，样品过厚会导致散射，影响成像质量。
• 常规厚度范围：通常样品中心厚度需控制在几十到几百纳米之间，以平衡制备难度与成像效果。
• 选项辨析：
  • A（5-10 nm）和D（0.5-2 nm）过薄，难以稳定制备；
  • C（100-1000 nm）过厚，超出电子穿透极限；
  • B（100-200 nm）是常规制备技术中常见且合理的范围。

透射电镜通过电子束穿透样品来观察内部结构，因此样品厚度直接影响成像质量：

1. 电子穿透能力：电子束在固体中易散射，样品过厚会导致信号减弱或失真。
2. 制备技术限制：常规超薄切片技术（如金刚石刀切片）可制备50-200 nm的样品，B选项（100-200 nm）属于此范围。
3. 应用需求：更薄样品（如A、D）需特殊制备方法（如聚焦离子束刻蚀），但题目未提及特殊场景，故选常规答案。