题目
以下哪种方法不属于薄膜材料的物理制备方法?A. 蒸发法B. 溅射法C. 化学气相沉积法D. 外延生长法
以下哪种方法不属于薄膜材料的物理制备方法?
A. 蒸发法
B. 溅射法
C. 化学气相沉积法
D. 外延生长法
题目解答
答案
C. 化学气相沉积法
解析
本题考查薄膜材料制备方法的分类,核心在于区分物理制备方法与化学制备方法的关键特征。
- 物理制备方法(如物理气相沉积,PVD)主要通过物理过程(如蒸发、溅射)将材料转移到基底上,不涉及化学反应。
- 化学制备方法(如化学气相沉积,CVD)则依赖化学反应生成薄膜。
破题关键:明确各选项对应的技术原理,判断是否涉及化学反应。
选项分析
A. 蒸发法
通过加热使材料蒸发,蒸气在基底上凝结成膜,无化学反应,属于物理方法。
B. 溅射法
利用高能粒子轰击靶材,使材料原子溅射到基底,无化学反应,属于物理方法。
C. 化学气相沉积法
通过气相化学前驱体在基底表面发生化学反应生成薄膜,属于化学方法。
D. 外延生长法
通过原子逐层生长形成薄膜,通常涉及物理或弱化学过程(如分子束外延),仍归类为物理方法。
结论:化学气相沉积法(C)是化学制备方法,其他均为物理方法。