在半导体生产中,常常采用的二氧化方式是干-湿-干氧化,湿氧氧化的作用是:A. 较短的时间得到较厚的薄膜B. 得到较好的表面特性C. 较好的硅/二氧化硅界面特性D. 提高氧化膜的质量

步骤 1：理解干-湿-干氧化过程
干-湿-干氧化是一种在半导体制造过程中用于形成二氧化硅层的工艺。该过程包括三个阶段：干氧化、湿氧化和再次干氧化。湿氧化阶段使用水蒸气作为氧化剂，以提高氧化速率和薄膜质量。

步骤 2：分析湿氧化的作用
湿氧化阶段的主要作用是通过水蒸气的参与，加速氧化过程，从而在较短的时间内形成较厚的二氧化硅薄膜。此外，湿氧化还可以改善二氧化硅薄膜的表面特性和硅/二氧化硅界面的特性，从而提高整体的氧化膜质量。

步骤 3：确定湿氧化的主要作用
根据上述分析，湿氧化的主要作用是较短的时间得到较厚的薄膜。因此，选项A是正确的。