题目

下列哪种材料通常不会用于离子注入工艺中的掩膜材料?A. 二氧化硅B. 氮化硅C. 金属D. 光刻胶

下列哪种材料通常不会用于离子注入工艺中的掩膜材料?

A. 二氧化硅

B. 氮化硅

C. 金属

D. 光刻胶

题目解答

答案

C. 金属