动态非晶体硒探测器采用了的非晶硒涂层厚度A. 20μmB. 100μmC. 500μmD. 1000μmE. 5000μm

动态非晶体硒探测器是一种用于数字X射线成像的设备，它利用非晶硒层来转换X射线光子为电信号。非晶硒层的厚度对于探测器的性能至关重要，因为它影响到X射线的吸收效率和信号的生成。根据已知的文献和研究，动态非晶硒探测器中非晶硒涂层的厚度通常为1000μm，以确保足够的X射线吸收和良好的信号生成。