下列属于反应溅射优点的是()A. 降低靶材的成本B. 沉积薄膜的成分易于调控C. 薄膜沉积速率快

本题考查反应溅射的优点相关知识点。解题思路是分别分析每个选项是否符合反应溅射的优点特征。

• 选项A：
  在反应溅射中，通常可以使用价格相对较低的靶材，通过与反应气体发生反应来沉积所需的化合物薄膜。例如，在沉积二氧化硅（$SiO_2$）薄膜时，可以使用硅（$Si$）靶材，硅的成本相对较低，而不是使用二氧化硅靶材，这样就降低了靶材的成本。所以选项A属于反应溅射的优点。
• 选项B：
  反应溅射过程中，通过控制反应气体的流量、压力等参数，可以很方便地调控沉积薄膜的成分。比如在沉积氮化钛（$TiN$）薄膜时，改变氮气（$N_2$）和氩气（$Ar$）的比例，就能改变薄膜中氮的含量，从而实现对薄膜成分的精确调控。所以选项B属于反应溅射的优点。
• 选项C：
  反应溅射过程中，反应气体与靶材表面的反应会在一定程度上阻碍溅射粒子的发射，导致薄膜沉积速率相对较慢，而不是快。所以选项C不属于反应溅射的优点。