离子注入工艺的主要目的是（）。A. 形成金属连线B. 掺杂半导体C. 沉积薄膜D. 清洗晶圆

离子注入工艺是一种半导体制造技术，通过将带电离子加速并注入到半导体材料中，以实现对半导体材料的精确掺杂。这种工艺可以控制掺杂的深度和浓度，从而改变半导体的电学性质，是制造高性能半导体器件的关键步骤之一。