题目制备磁性材料的薄膜时，物理气相沉积（PVD）中的溅射镀膜法与蒸发镀膜法相比，其优势在于（）A. 薄膜的附着力更好B. 可以制备更厚的薄膜C. 沉积速率更快D. 设备成本更低制备磁性材料的薄膜时，物理气相沉积（PVD）中的溅射镀膜法与蒸发镀膜法相比，其优势在于（）A. 薄膜的附着力更好B. 可以制备更厚的薄膜C. 沉积速率更快D. 设备成本更低题目解答答案A. 薄膜的附着力更好