金属钨常常采用CVD法来制备。A. 正确B. 错误

化学气相沉积（CVD）是一种在气相中进行化学反应，将反应产物沉积在基底表面形成薄膜的技术。金属钨的制备可以通过CVD法实现，通过气态前驱物在基底上发生化学反应，沉积出金属钨薄膜。这种方法在半导体工业中被广泛用于制备各种金属薄膜。