题目

二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些（）      ①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数  ②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系数  ③二氧化硅的厚度大于杂质在二氧化硅中的扩散深度  ④二氧化硅的厚度小于杂质在二氧化硅中的扩散深度A.②④B.①③C.①④D.②③

二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些（）      ①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数  ②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系数  ③二氧化硅的厚度大于杂质在二氧化硅中的扩散深度  ④二氧化硅的厚度小于杂质在二氧化硅中的扩散深度
A.②④
B.①③
C.①④
D.②③

题目解答

答案

答案解析

正确答案： B
解析： 暂无解析

解析

步骤 1：杂质扩散系数比较
杂质在硅中的扩散系数必须小于在二氧化硅中的扩散系数，这样杂质才能在二氧化硅中扩散得更慢，从而被二氧化硅膜有效掩蔽。
步骤 2：二氧化硅膜厚度与杂质扩散深度比较
二氧化硅的厚度必须大于杂质在二氧化硅中的扩散深度，这样杂质才能被二氧化硅膜有效阻挡，防止其扩散到硅中。