实验十四低真空的获得、测量与用直流溅射法制备金属薄膜中，影响薄膜厚度的实验参数有哪些？()A. 沉积时间B. 靶基距C. 沉积功率D. 衬底

本题考查低真空下直流溅射法制备金属薄膜中影响薄膜厚度的实验参数。需结合溅射沉积原理分析各选项：

选项A：沉积时间

沉积时间是薄膜生长的直接时间因素。在其他条件不变时，沉积时间越长，到达衬底的粒子越多，薄膜厚度越大。沉积时间直接影响厚度。

选项B：靶基距

靶基距是靶材与衬底之间的距离。溅射粒子从靶材出发到到达衬底达的信号，靶基距越小，粒子飞行距离短，能量损失少，沉积速率可能更高（或单位时间沉积厚度更大）；反之则速率降低。靶基距通过影响沉积速率间接影响厚度。

选项C：沉积功率

沉积功率决定了溅射产额（单位时间从靶材溅射出的粒子数）。功率越高，溅射产额越大，单位时间内到达衬底的粒子越多，沉积速率越快，相同时间内薄膜厚度越大。沉积功率直接影响沉积速率，从而影响厚度。

选项D：衬底

衬底的性质（如温度、表面粗糙度、晶体结构等）会影响粒子的附着与成核。例如：

• 衬底温度越高，粒子扩散能力增强，更易形成连续薄膜，可能提高沉积速率；
• 衬底表面粗糙时，粒子可能嵌入凹坑，实际覆盖厚度感知不同；
• 衬底与薄膜的晶格匹配度会影响薄膜的生长模式（如柱状生长或层状生长），进而影响厚度分布。衬底性质通过影响粒子附着和成核间接影响厚度。

综上，四个选项均影响薄膜厚度。