题目

下列哪些刻烛工艺具有良好的各项异性;()。MA. 湿法刻蚀B. 等离子体刻蚀C. 溅射刻蚀D. 反应离子刻蚀

下列哪些刻烛工艺具有良好的各项异性;()。M

A. 湿法刻蚀

B. 等离子体刻蚀

C. 溅射刻蚀

D. 反应离子刻蚀

题目解答

答案

BCD
B. 等离子体刻蚀
C. 溅射刻蚀
D. 反应离子刻蚀