题目

下列哪些刻烛工艺具有良好的各项异性;()。M A. 湿法刻蚀B. 等离子体刻蚀C. 溅射刻蚀D. 反应离子刻蚀

下列哪些刻烛工艺具有良好的各项异性;()。M

  • A. 湿法刻蚀
  • B. 等离子体刻蚀
  • C. 溅射刻蚀
  • D. 反应离子刻蚀

题目解答

答案

BCD