题目

氧化温度为1000℃,N型硅片先干氧20分钟(A=0.165um,B=0.0117um2/hr,τ = 0.37hr),再湿氧(A=0.226um,B =0。287um2/hr)90分钟。用Deal—Grove模型计算氧化层的最终厚度。.

氧化温度为1000℃,N型硅片先干氧20分钟(A=0.165um,B=0.0117um2/hr,τ = 0.37hr),再湿氧(A=0.226um,B =0。287um2/hr)90分钟。用Deal—Grove模型计算氧化层的最终厚度。

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题目解答

答案

解:干氧

A=0。165um, B=0。0117um2/hrτ = 0.37hr,t=20min=033hr

干氧20分钟氧化层厚度

湿氧

0。04um,A=0.226um,B =0.287um2/hr,t=90min=1.5hr,

湿氧90分钟后,氧化层的最终厚度

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