题目

以下哪些是MOCVD工艺中常见的金属有机前驱体？A. 三甲基镓 (TMGa)B. 三甲基铝 (TMAI)C. 二甲基锌 (DMZn)D. 砷化氢 (AsH₃)

以下哪些是MOCVD工艺中常见的金属有机前驱体？

A. 三甲基镓 (TMGa)

B. 三甲基铝 (TMAI)

C. 二甲基锌 (DMZn)

D. 砷化氢 (AsH₃)

题目解答

答案

ABC
A. 三甲基镓 (TMGa)
B. 三甲基铝 (TMAI)
C. 二甲基锌 (DMZn)