2.化学气相沉积是一种常用的制备纳米薄膜的方法。A. 对B. 错

考查要点：本题主要考查学生对化学气相沉积（CVD）技术及其应用领域的了解，特别是其在纳米薄膜制备中的作用。

解题核心思路：需明确化学气相沉积的基本定义及其在纳米材料制备中的应用情况。关键点在于判断CVD是否属于制备纳米薄膜的常用方法。

破题关键点：

1. 化学气相沉积（CVD）：通过气相前驱体在基底表面化学反应生成固体薄膜的技术。
2. 纳米薄膜：厚度在纳米尺度的薄膜材料，制备方法多样，但CVD因可控性高、沉积均匀等特性被广泛应用。
3. 结论：CVD是制备纳米薄膜的常用方法之一，因此题目正确。

化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition, CVD）是一种通过气相中的反应物分子在基底表面发生化学反应，生成固体薄膜的工艺。其特点包括：

1. 高可控性：可通过调节温度、压力、气体成分等参数，精确控制薄膜的成分和结构。
2. 广泛应用：常用于制备半导体材料（如硅基薄膜）、涂层材料（如陶瓷涂层）以及纳米材料（如碳纳米管、纳米颗粒薄膜）。
3. 纳米薄膜制备：CVD技术尤其适合制备纳米薄膜，例如在石墨烯生长、过渡金属二硫化物（TMDCs）薄膜制备中具有重要应用。

题目中“常用”一词符合实际，因此正确答案为A 对。