退火的作用是修复晶格缺陷,还能使杂质原子移动到晶格格点上,激活杂质。A. 正确B. 错误

退火是一种热处理工艺，通过加热和冷却过程来改变材料的微观结构。在半导体制造中，退火可以修复晶格缺陷，使杂质原子移动到晶格格点上，从而激活杂质，提高材料的电学性能。因此，题目中的描述是正确的。