利用 LPCVD 法制备多晶硅薄膜时，可以选择普通玻璃作为衬底A. 正确B. 错误

本题考查LPCVD法制备多晶硅薄膜时衬底材料的选择相关知识。解题思路是明确LPCVD法的工艺特点以及普通玻璃的性质，通过对比两者来判断能否用普通玻璃作为衬底。

LPCVD（低压化学气相沉积）法是在较低压力下进行化学气相沉积的工艺。在LPCVD法制备多晶硅薄膜的过程中，通常需要在较高的温度下进行反应，一般温度范围在550 - 650℃。

而普通玻璃的软化点较低，一般在500 - 600℃左右。当采用LPCVD法在普通玻璃衬底上制备多晶硅薄膜时，反应所需的高温会使普通玻璃发生软化变形，从而无法保证薄膜的质量和衬底的平整度，也就不能满足制备多晶硅薄膜的要求。所以，利用LPCVD法制备多晶硅薄膜时，不可以选择普通玻璃作为衬底。