MOCVD工艺常常用于化合物半导体的外长,例如砷化镓,氮化镓等等。 A. 正确B. 错误

MOCVD（金属有机化学气相沉积）是一种用于生长高质量半导体薄膜的工艺。它广泛应用于化合物半导体材料的外延生长，例如砷化镓（GaAs）和氮化镓（GaN）。这些材料在光电子和微电子器件中具有重要应用，如LED、激光器和高频电子器件等。MOCVD工艺通过控制反应气体的流量和温度，可以精确控制薄膜的成分、厚度和结构，从而实现高质量的外延生长。