晶体中一维尺寸很大、另两维尺寸很小的缺陷称为面缺陷。A. 项]对B. 项]错

本题考查晶体缺陷的分类，关键在于区分不同缺陷的维度特征：

• 点缺陷：三维尺寸均很小；
• 线缺陷：一维尺寸较大，另两维很小；
• 面缺陷：二维尺寸较大，第三维很小。

题目中将“一维尺寸大、另两维小”的特征错误归为面缺陷，而实际应为线缺陷，因此判断为错误。

面缺陷的典型代表是晶界或堆垛层错，其特征是二维延伸（如平面），第三维尺寸较小。而线缺陷（如位错）表现为一维延伸（如线状），其他两维尺寸较小。题目中描述的“一维大、另两维小”符合线缺陷的特征，而非面缺陷。因此原题说法错误。