光刻胶的性能指标包括:。A. 灵敏度B. 分辨率C. 黏附性D. 抗蚀性

光刻胶是一种用于微电子制造过程中的关键材料，主要用于光刻工艺中。光刻胶的性能指标包括其对光的敏感度（灵敏度）、在光刻过程中能够达到的最小特征尺寸（分辨率）、与基底材料的结合强度（黏附性）以及在后续工艺中抵抗化学腐蚀的能力（抗蚀性）。