离子注入时可以采用的掩膜有很多，例如二氧化硅、氮化硅、金属、光刻胶等，用的较多的是光刻胶。A. 正确B. 错误

离子注入是一种半导体制造工艺，用于将特定的离子引入半导体材料中，以改变其电学性质。在离子注入过程中，为了保护某些区域不被离子注入，会使用掩膜。常见的掩膜材料包括二氧化硅、氮化硅、金属和光刻胶。其中，光刻胶因其良好的可加工性和成本效益，被广泛用于离子注入掩膜。