最常用的二氧化硅的湿法刻蚀腐蚀液包括()。A. 氢氟酸B. 氟化铵C. 去离子水D. 磷酸

二氧化硅的湿法刻蚀通常使用氢氟酸（HF）作为主要的腐蚀剂，因为HF能够有效地与二氧化硅（SiO2）反应，生成可溶性的氟硅酸（H2SiF6）。为了提高刻蚀的选择性和控制刻蚀速率，通常会加入氟化铵（NH4F）和去离子水（DI Water）。磷酸（H3PO4）不是常用的二氧化硅湿法刻蚀液的成分。