一号清洗液的成分不包括下面哪一项A. H2O2B. H2OC. NH4OHD. HCl

一号清洗液通常由过氧化氢（H2O2）、水（H2O）和氨水（NH4OH）组成，用于半导体制造过程中的清洗步骤。其中，过氧化氢和氨水作为主要的清洗剂，水则作为溶剂。而盐酸（HCl）并不属于一号清洗液的成分。