曝光后,光刻胶由可溶变成不溶,该种光刻胶是正胶。A. 正确B. 错误

本题考查光刻胶的分类及工作原理，需明确正胶（Positive Photoresist）与负胶（Negative Photoresist）的核心区别。关键点在于曝光后光刻胶溶解性的变化：

• 正胶：曝光后，光刻胶发生化学反应，显影时曝光区域被溶解，未曝光区域保留。
• 负胶：曝光后，光刻胶交联固化，显影时未曝光区域被溶解，曝光区域保留。

题目中描述“曝光后由可溶变成不溶”，需判断是否属于正胶特性。通过对比可知，正胶的曝光区域溶解性增加，而题目描述与正胶特性矛盾，因此答案为错误。

核心概念辨析

1. 正胶的工作原理：

   • 曝光后，光刻胶分子链断裂，显影时曝光区域可溶，未曝光区域不溶。
   • 最终保留未曝光部分，图案与光掩膜不透光区域一致。

2. 负胶的工作原理：

   • 曝光后，光刻胶交联固化，显影时未曝光区域可溶，曝光区域不溶。
   • 最终保留曝光部分，图案与光掩膜透光区域一致。

题目逻辑分析

题目描述“光刻胶由可溶变成不溶”对应负胶的特性（曝光后不溶），而非正胶。因此，原题说法错误。