光刻工艺中，用于增强光刻胶附着力的步骤是什么?A. 曝光B. 显影C. 预烘D. 冲洗

本题考查光刻工艺中各步骤步骤的功能，需明确增强光刻胶附着力的关键步骤。
光刻工艺的核心步骤包括涂胶、预烘、曝光、显影、定影、刻蚀等，各步骤功能不同：

• 曝光：**利用光照射光刻胶，使曝光区域发生化学反应（如交联或分解），但不直接增强附着力；
• 显影：：通过显影液溶解未曝光或已曝光的光刻胶，形成图案，与附着力无关；
• 预烘：涂胶后对光刻胶进行加热处理，可去除光刻胶中的溶剂（如有机溶剂），减少胶层内的气泡和针孔，同时光刻胶与晶圆的接触面积和结合力，从而增强附着力；
• 冲洗：通常用于去除显影或蚀刻后的残留物，不涉及的步骤，不影响附着力。